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Resumen

ISO 17331:2004 specifies chemical methods for the collection of iron and/or nickel from the surface of silicon-wafer working reference materials by the vapour-phase decomposition method or the direct acid droplet decomposition method.

It applies to iron and/or nickel atomic surface densities from 6 times 10 to the power 9 atoms per square centimetre to 5 times 10 to the power 11 atoms per square centimetre.

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Informaciones generales

  • Estado
     : Publicado
    Fecha de publicación
     : 2004-05
    Etapa
    : Norma Internacional confirmada [90.93]
  • Edición
     : 1
    Número de páginas
     : 18
  • Comité Técnico :
    ISO/TC 201
    ICS :
    71.040.40 
  • RSS actualizaciones

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9
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