International Standard
ISO 17331:2004
Surface chemical analysis — Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
Reference number
ISO 17331:2004
ISO 17331:2004
Edición 1
2004-05
2004-05
© ISO 2024
International Standard
p
ISO 17331:2004
32983
No disponible en español
Publicado
(Edición 1, 2004)
Esta norma se revisó y confirmó por última vez en 2019.
Por lo tanto, esta versión es la actual.
Esta norma tiene 1 modificaciones.
Resumen
ISO 17331:2004 specifies chemical methods for the collection of iron and/or nickel from the surface of silicon-wafer working reference materials by the vapour-phase decomposition method or the direct acid droplet decomposition method.
It applies to iron and/or nickel atomic surface densities from 6 times 10 to the power 9 atoms per square centimetre to 5 times 10 to the power 11 atoms per square centimetre.
Informaciones generales
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Estado: PublicadoFecha de publicación: 2004-05Etapa: Norma Internacional confirmada [90.93]
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Edición: 1Número de páginas: 18
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Comité Técnico :ISO/TC 201ICS :71.040.40
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Modificaciones
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Edición 2010
ISO 17331:2004/Amd 1:2010
51406
CHF
18
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Ciclo de vida
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Ahora
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Preliminar
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Propuesta
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Preparación
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Comité
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Consulta
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50
Aprobación
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60
Publicación
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90
Revisión
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95
Retirada
Modificaciones
Aportan contenido adicional; Disponible para su compra; No incluidas en el texto de la norma existentePublicadoISO 17331:2004/Amd 1:2010
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