Reference number
ISO 23170:2022
International Standard
ISO 23170:2022
Surface chemical analysis — Depth profiling — Non-destructive depth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films on Si substrates with medium energy ion scattering
Edition 1
2022-06
Preview
ISO 23170:2022
74814
недоступно на русском языке
Опубликовано (Версия 1, 2022)

ISO 23170:2022

ISO 23170:2022
74814
Язык
Формат
CHF 151
Пересчитать швейцарские франки (CHF) в ваша валюта

Тезис

This document specifies a method for the quantitative depth profiling of amorphous heavy metal oxide ultrathin films on Si substrates using medium energy ion scattering (MEIS).

Общая информация

  •  : Опубликовано
     : 2022-06
    : Опубликование международного стандарта [60.60]
  •  : 1
  • ISO/TC 201/SC 4
    71.040.40 
  • RSS обновления

Жизненный цикл

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ