Тезис
This document provides guidelines for measuring the sputtered depth in sputtered depth profiling.
The methods of sputtered depth measurement described in this document are applicable to techniques of surface chemical analysis when used in combination with ion bombardment for the removal of a part of a solid sample to a typical sputtered depth of up to several micrometres. The depth typically determined by this approach is between 1 nm to 500 µm.
Общая информация
-
Текущий статус: ОпубликованоДата публикации: 2021-03Этап: Опубликование международного стандарта [60.60]
-
Версия: 2
-
Технический комитет :ISO/TC 201/SC 4ICS :71.040.40
- RSS обновления
Жизненный цикл
-
Ранее
ОтозваноISO/TR 15969:2001
-
Сейчас
-
00
Предварительная стадия
-
10
Стадия, связанная с внесением предложения
-
20
Подготовительная стадия
-
30
Стадия, связанная с подготовкой проекта комитета
-
40
Стадия, связанная с рассмотрением проекта международного стандарта
-
50
Стадия, на которой осуществляется принятие стандарта
-
60
Стадия, на которой осуществляется публикация
-
90
Стадия пересмотра
-
95
Стадия, на которой осуществляется отмена стандарта
-
00